光刻机是怎么刻蚀的?
刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图印上去，然后刻蚀机根据印上去的图刻蚀掉有图（或者没有图）的部分，留下剩余的部分。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
刻蚀相对于光刻来说更为简单。光刻机首先会在涂满光刻胶的晶圆上放置一块预先做好的光刻板，然后使用紫外线透过光刻板照射晶圆一段时间。这一过程利用紫外线使特定区域的光刻胶发生化学变化，变得容易被腐蚀。刻蚀则是光刻步骤之后的过程，此时已经通过紫外线照射使晶圆表面的一部分光刻胶发生化学变化。
光刻机与刻蚀机在半导体过程中的作用不同。光刻机主要负责将电路图印制到硅片上，而刻蚀机则根据光刻机印制的图去除不需要的材料，形成电路结构。 在光刻过程中，光刻机通过紫外光穿过光刻板上的掩模，将图曝光到涂有光刻胶的硅片上。
光刻机是干什么用的?一台价值30亿
1、光刻机是芯片的必备设备。芯片是干什么用的？可能有人会嘲笑这个问题，说它太初级，太简单；是的，有些人可能不知道芯片的用途，但世界上几乎每个人都在使用芯片。这不是夸张，是事实！芯片的用途：手机、高铁、汽车、电网、家用电器、医疗设备、各种自动化设备等。
2、从鸿蒙的诞生到光刻机的布局，再到数字能源的成立，华为要实现核心技术的掌握，彻底冲出重围。据企查查信息，6月7日，华为数字能源技术有限成立，法定代表人为胡厚昆，资本30亿人民币。华为技术有限为唯一股东，100%控股。
3、AL的新一代High-NA EUV光刻机预计最快也要2023年底才正式向客户交付。台积电和英特尔都选择采用High-NA EUV光刻机来生产基于GGA架构晶体管的2nm工艺。杨瑞临称，虽然三星采用市场现有方，可以做到3nm GAA技术量产，但关键是成本会增加、交期会拉长、良率提升速度慢、品质不见得好。
