光刻机为啥这么难造?比原还稀有,全世界仅两个掌握技术_百度...
光刻机的难度极高,这主要是因为其技术复杂性。相比起原,光刻机的全球掌握者更为稀少,目前仅有荷兰和日本两个拥有这项技术。在芯片领域,光刻机是不可或缺的核心设备。它利用紫外线在硅片上刻画精细的线路,其加工精度能够达到纳米级别。
此外,光刻机内部零件繁多,90%的关键设备来自不同,研发成本高昂。光刻机技术的突破对中国芯片行业的影响 中国在光刻机技术上的突破,对于国内芯片行业而言,既是机遇也是挑战。随着光刻机技术的提升,芯片能力有望增强,带动集成电路、微电子、光电等相关领域发展。
但对于光刻机,在全世界并不存在任何限制,任何都可以对光刻机进行研制,世界各国也是纷纷尝试,但是到目前为止全球也仅有荷兰和日本掌握其研发技术,这种技术简直比原还稀有。
光源问题:光刻机以光为媒介,实现微米甚至纳米级别的图形加工。荷兰AL的极紫外光刻机(EUV)是现在全球最顶尖的光刻机设备,其光源技术来自于美国的Cymer,通过多次反射短波紫外线得到极紫外线。这个过程的精密程度可见一斑。 反射镜问题:反射镜是用来调整光路和聚焦的,其精度要求极高。
光刻机的技术的确很难,哪怕放眼世界上的发达当中,也就是荷兰和日本两大拥有光刻机,并且大多数顶尖的技术都是被荷兰asml给掌握垄断的,这一家了很多的技术,也有了时间的沉淀,所以才成为了世界上光刻机的王牌,并不是一朝一夕就可以做到的,我国还是需要很长的路要走。