光刻机为啥这么难造?比原还稀有,全世界仅两个掌握技术_百度...
光刻机的难度极高，这主要是因为其技术复杂性。相比起原，光刻机的全球掌握者更为稀少，目前仅有荷兰和日本两个拥有这项技术。在芯片领域，光刻机是不可或缺的核心设备。它利用紫外线在硅片上刻画精细的线路，其加工精度能够达到纳米级别。
此外，光刻机内部零件繁多，90%的关键设备来自不同，研发成本高昂。光刻机技术的突破对中国芯片行业的影响 中国在光刻机技术上的突破，对于国内芯片行业而言，既是机遇也是挑战。随着光刻机技术的提升，芯片能力有望增强，带动集成电路、微电子、光电等相关领域发展。
但对于光刻机，在全世界并不存在任何限制，任何都可以对光刻机进行研制，世界各国也是纷纷尝试，但是到目前为止全球也仅有荷兰和日本掌握其研发技术，这种技术简直比原还稀有。
光源问题：光刻机以光为媒介，实现微米甚至纳米级别的图形加工。荷兰AL的极紫外光刻机（EUV）是现在全球最顶尖的光刻机设备，其光源技术来自于美国的Cymer，通过多次反射短波紫外线得到极紫外线。这个过程的精密程度可见一斑。 反射镜问题：反射镜是用来调整光路和聚焦的，其精度要求极高。
光刻机的技术的确很难，哪怕放眼世界上的发达当中，也就是荷兰和日本两大拥有光刻机，并且大多数顶尖的技术都是被荷兰asml给掌握垄断的，这一家了很多的技术，也有了时间的沉淀，所以才成为了世界上光刻机的王牌，并不是一朝一夕就可以做到的，我国还是需要很长的路要走。
