光刻机的原理是什么
1、“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。
2、用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。
3、光刻机的主要功能是将芯片设计人员设计的线路和功能区准确“打印”到晶圆上，这一过程类似于照相机的成像原理。 然而，光刻机“打印”的不是普通照片，而是精细的电路图和其他电子元件布局。
4、光刻机的工作原理是利用光来侵蚀光刻胶，实现电路图的转移。这一过程涉及将电路图通过透镜缩小后，用光线照射，使光刻胶暴露的部分溶解，从而形成芯片上的电路。 掩模版的设计流程对于亚微米级的CMOS工艺至关重要。它确保光刻机能够精确地将电路图映射到硅片上。
5、光刻机的原理是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光。光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具有电子线路图的作用。光刻机（LithographyMachine）是一种半导体工业中常用的设备，用于将电路图转移到半导体芯片上。
