光刻机为什么不专利
光刻机不专利的原因是：光刻机专利是公开的。我国早就能光刻机了，这和专利限制无关。全球能够光刻机的有三个，一共四家可以光刻机，荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。其中唯一能高端euv光刻机的只有一家就是荷兰阿斯麦尔，其他三家是duv光刻机。
随着科技的迅猛进步，光刻机的技术也在不断革新和提升。这表明，光刻机的发展不仅仅依赖于专利，更取决于技术的创新与进步。近年来，市场上出现了越来越多的本土厂商，他们不仅掌握了先进的光刻技术，还拥有了自己的专利。这说明，光刻机的发展关键在于技术创新。
光刻机并不是难，中国人自己也能搞出来。但是核弹是高机密的，没有专利。光刻机是普通工业，有大量专利。AL有大量专利，组成专利墙，让你无法突破。日本企业就是这么败了。
机器包含许多专利技术。光刻机本身就是一种专利产品，该机器包含许多专利技术，如光源、掩膜、光刻胶和碳化硅等。这些部件和技术都已经被专利保护，属于知识产权产品，总之，光刻机是一项高技术含量的产业，也是一个专利密集型行业。
